微纳尺度制造工程 第三版

 

基本信息： 

【作　者】（美）斯蒂芬·A·坎贝尔著 

【丛书名】国外电子与通信教材系列 

【形态项】 640 

【出版项】 北京：电子工业出版社 , 2011.05 

【ISBN号】978-7-121-13428-9 

【中图法分类号】TN405 

【原书定价】83.00 

【主题词】微电子技术-生产工艺-高等学校-教材 

【参考文献格式】 （美）斯蒂芬·A·坎贝尔著. 微纳尺度制造工程. 北京：电子工业出版社, 2011.05. 

内容提要: 

本书是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺，不仅介绍了它的物理和化学原理，还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。