QC/T 1153-2021 汽车紧固连接螺栓轴力测试 超声波压电陶瓷片法

本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。
本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5×1013 cm-3、铝含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3，元素浓度（原子个数百分比）不大于1%。标准编号：GB/T 41153-2021 
标准名称:碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法 
英文名称:Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry 
标准状态：现行 
发布日期：2021-12-31 
实施日期：2022-07-01 
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) 
起草人：马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩 
起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司