半导体晶片清洗：科学、技术与应用

 

基本信息： 

【作　者】（美）克恩主编 

【丛书名】国外电子与通信教材系列 

【形态项】 350 

【出版项】 北京：电子工业出版社 , 2012.07 

【ISBN号】978-7-121-17397-4 

【中图法分类号】TN 

【原书定价】98.00 

【主题词】芯片-半导体材料-清洗技术-高等学校-教材 

【参考文献格式】 （美）克恩主编. 半导体晶片清洗 科学、技术与应用. 北京：电子工业出版社, 2012.07. 

内容提要: 

半导体制造工艺是实现由材料到分立器件或集成系统的关键，其中清洗工艺是使用最普遍的工艺步骤。本书详细介绍了与分立半导体器件及超大规模集成电路芯片制造相关的各种晶片清洗技术，着重讲解了这些清洗技术的发展过程、基本原理和实际应用问题。全书共分为五部分十三章：第一部分介绍半导体晶片沾污类型、清洗技术的发展历程和演变，以及芯片制造过程中……