真空镀膜原理与技术

 

基本信息： 

【作　者】方应翠主编；沈杰，解志强副主编 

【形态项】 213 

【出版项】 北京：科学出版社 , 2014.03 

【ISBN号】978-7-03-039898-7 

【中图法分类号】TN305.8 

【原书定价】38.00 

【主题词】真空技术-镀膜 

【参考文献格式】 方应翠主编；沈杰，解志强副主编. 真空镀膜原理与技术. 北京：科学出版社, 2014.03. 

内容提要: 

本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。全书具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用。