GM/T 0109-2021 基于云计算的电子签名服务技术要求

本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法，以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。
本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3的单晶硅、多晶硅或非晶硅样品，溅射弧坑深度在50 nm及以上。标准编号：GB/T 40109-2021 
标准名称:表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法 
英文名称:Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon 
标准状态：现行 
发布日期：2021-05-21 
实施日期：2021-12-01 
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38) 
起草人：马农农、何友琴、陈潇、张鑫、王东雪、李展平 
起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所