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SJ/T 11853-2022 正压悬浮区熔单晶硅炉

本文件规定了正压悬浮区熔单晶硅炉的产品标记和主要参数、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、储存。适用于以高纯多晶硅做原料,采用悬浮区熔法进行半导体级单晶硅生长的单晶硅炉。标准编号:SJ/T 11853-2022 
标准名称:正压悬浮区熔单晶硅炉 
标准状态:现行 
发布日期:2022-09-30 
实施日期:2023-01-01 
发布部门:中华人民共和国工业和信息化部 

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